Pengaruh Optis Kontak Belakang terhadap Parameter Optis Lapisan a-si:h

dokumen-dokumen yang mirip
Homogenitas Ketebalan, Konduktivitas Listrik dan Band Gap Lapisan Tipis a-si:h tipe-p dan tipe-p Doping Delta yang dideposisi dengan Sistem PECVD

BAB I PENDAHULUAN. Sel surya merupakan alat yang dapat mengkonversi energi matahari menjadi

Efek Staebler-Wronski dan Pengaruh Waktu Anil pada Lapisan Instrinsik Silikon Amorf Terhidrogenasi (a-si:h)

PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILIKON MIKROKRISTAL (µc Si:H) TIPE-P DENGAN METODE HOT WIRE PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (HW-PECVD)

Penumbuhan Lapisan Tipis µc-si:h Tipe-P dengan Metode HW-PECVD untuk Aplikasi Sel Surya

BAB 1 PENDAHULUAN Latar Belakang

SINTESIS LAPISAN TIPIS SEMIKONDUKTOR DENGAN BAHAN DASAR TEMBAGA (Cu) MENGGUNAKAN CHEMICAL BATH DEPOSITION

BAB I PENDAHULUAN. Pada saat ini dunia elektronika mengalami kemajuan yang sangat pesat, hal ini

Pembuatan Sel Surya Film Tipis dengan DC Magnetron Sputtering

KARAKTERISTIK ARUS DAN TEGANGAN SEL SURYA

PEMBUATAN KONDUKTOR TRANSPARAN THIN FILM SnO2 DENGAN MENGGUNAKAN TEKNIK SPRAY PYROLYSIS

BAB I PENDAHULUAN. Indonesia merupakan negara berkembang yang berada dikawasan Asia

PENGARUH OPTIMASI CELAH PITA ENERGI DAN KETEBALAN LAPISAN TIPE-i PADA EFISIENSI SEL SURYA SILIKON AMORF SAMBUNGAN p-i-n

BAB I PENDAHULUAN. Perkembangan teknologi yang semakin maju dalam beberapa dekade ini

BAB I PENDAHULUAN. Listrik merupakan kebutuhan esensial yang sangat dominan kegunaannya

PERKEMBANGAN SEL SURYA

Optimasi Tekanan Deposisi dalam Simulasi Efisiensi Sel Surya Berbasis Material a-si:h

HASIL KELUARAN SEL SURYA DENGAN MENGGUNAKAN SUMBER CAHAYA LIGHT EMITTING DIODE

F- 1. PENGARUH PENYISIPAN LOGAM Fe PADA LAPISAN TiO 2 TERHADAP PERFORMANSI SEL SURYA BERBASIS TITANIA

BAB I PENDAHULUAN. Perkembangan ilmu pengetahuan dan teknologi sangat mempengaruhi peradaban

KARAKTERISASI SIFAT OPTIK LAPISAN TIPIS a-si:h:b UNTUK BAHAN SEL SURYA

Gambar Semikonduktor tipe-p (kiri) dan tipe-n (kanan)

STUDI KELAYAKAN PENGGUNAAN SEL SILIKON SEBAGAI PENGUBAH ENERGI MATAHARI MENJADI ENERGI LISTRIK

Optimasi Parameter Tekanan Deposisi untuk Penumbuhan Lapisan Tipis Mikrokristal Silikon dengan Metode HWC PECVD

BAB I PENDAHULUAN. kita terima bahwa pemakaian energi berbahan dasar dari fosil telah menjadi salah

Struktur dan konfigurasi sel Fotovoltaik

Laju Deposisi dan Celah Pita Energi Optik Lapisan Tipis a-si:h yang Ditumbuhkan dengan Teknik HWC-VHF-PECVD

BAB I PENDAHULUAN 1.1 Latar Belakang

KARAKTERISASI SIFAT OPTIK LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT GELAS UNTUK JENDELA SEL SURYA

Analisis Sifat-sifat Optoelektronik Lapisan Tipis Silikon Amorf terhidrogenasi yang ditumbuhkan dengan Teknik VHF-PECVD pada Variasi Daya RF

OPTIMALISASI TEGANGAN KELUARAN DARI SOLAR CELL MENGGUNAKAN LENSA PEMFOKUS CAHAYA MATAHARI

PENGARUH DAYA PLASMA PADA STRUKTUR MIKRO DAN SIFAT OPTIK FILM TIPIS CdTe YANG DITUMBUHKAN DENGAN DC MAGNETRON SPUTTERING

STUDI KELAYAKAN PENGGUNAAN SEL SILIKON SEBAGAI PENGUBAH ENERGI MATAHARI MENJADI ENERGI LISTRIK

Penumbuhan Silikon Nanowire dengan Nanokatalis Perak menggunakan Metode HWC-In Plasma-VHF-PECVD melalui Optimasi Tekanan

STUDI KELAYAKAN PENGGUNAAN SEL SILIKON SEBAGAI PENGUBAH ENERGI MATAHARI MENJADI ENERGI LISTRIK

PEMAKSIMALAN DAYA KELUARAN SEL SURYA MENGGUNAKAN LENSA CEMBUNG

Pengaruh Temperatur dan Waktu Putar Terhadap Sifat Optik Lapisan Tipis ZnO yang Dibuat dengan Metode Sol-Gel Spin Coating

DAFTAR ISI. PERNYATAAN BEBAS PLAGIARISME... ii. HALAMAN PENGESAHAN... iii. HALAMAN TUGAS... iv. HALAMAN PERSEMBAHAN... v. HALAMAN MOTO...

LAPORAN EKSPERIMEN FISIKA 2 FOTOKONDUKTIVITAS. Zudah Sima atul Kubro G DEPARTEMEN FISIKA FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM

Dualisme Partikel Gelombang

Logo SEMINAR TUGAS AKHIR. Henni Eka Wulandari Pembimbing : Drs. Gontjang Prajitno, M.Si

I. PENDAHULUAN. Lapisan tipis adalah suatu lapisan yang sangat tipis terbuat dari bahan organik,

Studi Optimasi Parameter Daya RF untuk Penumbuhan Lapisan Tipis Mikrokristal Silikon dengan Metode Hot Wire Cell PECVD

STUDI DISORDER LAPISAN TIPIS AMORF SILIKON KARBON (a-sic:h) HASIL DEPOSISI METODE DC SPUTTERING

Oleh: Tyas Puspitaningrum, Tjipto Sujitno, dan Ariswan

PENENTUAN PANJANG GELOMBANG EMISI PADA NANOPARTIKEL CdS DAN ZnS BERDASARKAN VARIASI KONSENTRASI MERCAPTO ETHANOL

STRUKTUR DAN KOMPOSISI KIMIA LAPIS TIPIS BAHAN SEMIKONDUKTOR Sn(Se 0,2 S 0.8 ) HASIL PREPARASI TEKNIK VAKUM EVAPORASI UNTUK APLIKASI SEL SURYA

Pengaruh Ketebalan terhadap Sifat Optik Lapisan Semikonduktor Cu 2 O yang Dideposisikan dengan Metode Chemical Bath Deposition (CBD)

Pengaruh Ketebalan Lapisan Aktif terhadap Karakteristik Sel Surya Berbasis a-si:h yang Ditumbuhkan dengan Teknik HWC-VHF-PECVD

BAB III EKSPERIMEN & KARAKTERISASI

BAB I PENDAHULUAN. modern pada fotokonduktor ultraviolet (UV) membutuhkan material

STUDI PENGARUH SUHU SUBSTRAT TERHADAP SIFAT LISTRIK DAN OPTIK BAHAN SEMIKONDUKTOR LAPISAN TIPIS SnSe HASIL PREPARASI TEKNIK VAKUM EVAPORASI

Karakterisasi XRD. Pengukuran

KARAKTERISASI GaAs DENGAN PHOTOLUMINESCENCE LASER ARGON

2 SINTESIS DAN KARAKTERISASI NANOSTRUKTUR ZnO

TUGAS AKHIR ANALISIS PERBANDINGAN KARAKTERISTIK PANEL SURYA BERDASARKAN MATERIAL PENYUSUN DAN INTENSITAS CAHAYA. Diajukan untuk memenuhi persyaratan

STRUKTUR CRISTAL SILIKON

SIDANG TUGAS AKHIR. Jurusan Teknik Material & Metalurgi Fakultas Teknologi Industri Institut Teknologi Sepuluh Nopember

Rekayasa Bahan untuk Meningkatkan Daya Serap Terhadap Gelombang Elektromagnetik dengan Matode Deposisi Menggunakan Lucutan Korona

PENGARUH TEKANAN DAN WAKTU DEPOSISI PADA TEKNIK SPUTTERING TERHADAP TAHANAN DAN REFLEKSIVITAS LAPISAN TIPIS a-si DAN Ag

PENGEMBANGAN SISTEM PENGUKUR KARAKTERISTIK I-V SEL SURYA DALAM KEADAAN PENYINARAN DAN TANPA PENYINARAN

JOBSHEET SENSOR CAHAYA (SOLAR CELL)

PENINGKATAN DAYA KELUARAN SEL SURYA DENGAN PENINGKATAN TEMPERATUR PERMUKAAN SEL SURYA

PEMBUATAN LAPISAN TIPIS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI (a-si:h) UNTUK BAHAN SEL SURYA

BAB I PENDAHULUAN. 1.1 Latar Belakang

BAB I 1 PENDAHULUAN. kemampuan mengubah bentuk radiasi cahaya menjadi sinyal listrik. Radiasi yang

III. METODE PENELITIAN

PERBEDAAN EFISIENSI DAYA SEL SURYA ANTARA FILTER WARNA MERAH, KUNING DAN BIRU DENGAN TANPA FILTER

STUDI EFEK FOTOVOLTAIK DAN PIROELEKTRIK Ba 0,75 Sr 0,25 TIO 3 (BST) YANG DIDADAH GALIUM (BGST) DI ATAS SUBSTRAT SI (100) TIPE-P ERDIANSYAH PRATAMA

Distribusi Celah Pita Energi Titania Kotor

STUDI EKSPERIMEN PENGARUH KETEBALAN LAPISAN AIR PENDINGIN TERHADAP DAYA KELUARAN MODUL PHOTOVOLTAIC MONOCRYSTALLINE

Kontribusi Fisika Indonesia Vol. 12, No.3, Juli 2001

commit to user BAB II TINJAUAN PUSTAKA

PENGARUH FILTER WARNA KUNING TERHADAP EFESIENSI SEL SURYA ABSTRAK

PHOTODETECTOR. Ref : Keiser

PENUMBUHAN FILM TIPIS SEMIKONDUKTOR

LAMPU TENAGA SINAR MATAHARI. Tugas Projek Fisika Lingkungan. Drs. Agus Danawan, M. Si. M. Gina Nugraha, M. Pd, M. Si

Struktur Double Barrier Untuk Aplikasi Pada Divais Silikon Amorf

Karakterisasi FTIR pada Studi Awal Penumbuhan CNT dengan Prekursor Nanokatalis Ag dengan Metode HWC-VHF-PECVD

ANALISA RANCANGAN SEL SURYA DENGAN KAPASITAS 50 WATT UNTUK PENERANGAN PARKIRAN UNISKA ABSTRAK

BAB I PENDAHULUAN. Sebagai negara berkembang yang kaya akan radiasi matahari yang tinggi,

SIFAT OPTIK, STRUKTUR KRISTAL DAN STRUKTUR MIKRO LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT KACA SEBAGAI BAHAN TCO

SIFAT OPTIK STRUKTUR KRISTAL DAN STRUKTUR MIKRO LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT KACA SEBAGAI BAHAN TCO

ANALISIS LEBAR CELAH PITA ENERGI DAN IKATAN MOLEKUL LAPISAN TIPIS a-si:h YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE PECVD

BAB I PENDAHULUAN 1.1. Latar Belakang

TEMA: ENERGI TERBARUKAN. FABRIKASI SEL SURYA BERBASIS SILIKON DENGAN LAPISAN ANTI REFLEKSI ZnO MENGGUNAKAN TEKNOLOGI THICK FILM

MAKALAH FABRIKASI DAN KARAKTERISASI XRD (X-RAY DIFRACTOMETER)

SIFAT-SIFAT OPTIK DAN LISTRIK BAHAN SEMIKONDUKTOR SnS LAPISAN TIPIS HASIL PREPARASI DENGAN TEKNIK VAKUM EVAPORASI UNTUK APLIKASI SEL SURYA ABSTRAK

BAB III METODE PENELITIAN

BAB I PENDAHULUAN. Spektrum elektromagnetik yang mampu dideteksi oleh mata manusia

PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILIKON MIKROKRISTAL TERHIDROGENASI DENGAN TEKNIK HWC-VHF-PECVD

Pengukuran Arus dan Tegangan pada Sistem Pembangkit Listrik Hybrid (Tenaga Angin dan Tenaga Matahari) Menggunakan Atmega 8535

FOTOVOLTAIK PASANGAN ELEKTRODA CUO/CU DAN CUO/STAINLESS STEEL MENGGUNAKAN METODE PEMBAKARAN DALAM BENTUK TUNGGAL DAN SERABUT DENGAN ELEKTROLIT NA2SO4

a. Lattice Constant = a 4r = 2a 2 a = 4 R = 2 2 R = 2,8284 x 0,143 nm = 0,4045 nm 2

PENGUKURAN KARAKTERISTIK SEL SURYA

4 Hasil dan Pembahasan

BAB I PENDAHULUAN 1.1 Latar Belakang Masalah

DAYA KELUARAN PANEL SURYA SILIKON POLI KRISTALIN PADA CUACA NORMAL DAN CUACA BERASAP DENGAN SUSUNAN ARRAY PARALEL

STUDI EKSPERIMENTAL PENGARUH SUDUT KEMIRINGAN TERHADAP PERPINDAHAN KALOR PADA MODUL PHOTOVOLTAIC UNTUK MENINGKATKAN DAYA KELUARAN

Transkripsi:

JURNAL FISIKA DAN APLIKASINYA VOLUME 8, NOMOR 2 JUNI 2012 Pengaruh Optis Kontak Belakang terhadap Parameter Optis Lapisan a-si:h Ismail dan Eddy Yahya Jurusan Fisika-FMIPA, Institut Teknologi Sepuluh Nopember Kampus ITS Sukolilo, Surabaya 61111 Intisari Lapisan a-si:h dideposisikan dalam substrat corning gelas eagle XG di PECVD dengan parameter deposisi: temperatur substrat 270 C, tekanan 530 mtorr, laju aliran silan SiH 4 20 sccm, aliran hidrogen 70 sccm dalam waktu 30 menit, diperoleh ketebalan lapisan sekitar 437,2 nm. Kontak belakang Al, Ag, Al/Ag dideposit dalam evaporator MVSystem dengan tekanan vakum 5,0.10 6 torr, sekitar (5-10) detik. Plot grafik menggunakan pengukuran data transmisi dari sampel dengan monokromator pada panjang gelombang 400-750 nm pada kisaran 10 nm dalam temperatur kamar 28,5 C. Sampel diukur dengan mengkondisikan sudut datang dan sudut bias mendekati normal (θ i θ r 0). Peningkatan faktor optis m a-si:h/al=1,563-1,635, m a-si:h/ag = 1,584-1,616, dan m a-si:h/al/ag = 2,932-3,016. Pengaruh kontak belakang f(r B) a-si:h/al = 1,1531-1,1581, f(r B) a-si:h/ag = 1,1552-1,1603, f(r B) a-si:h/al/ag = 1,1573-1,1625. Pengumpulan muatan model optis QE a-si:h/al = 0,8361-0,8723, QE a-si:h/ag = 0,8362-0,8739, QE a-si:h/al/ag = 0,8387-0,8755. KATA KUNCI: pengaruh kontak belakang, faktor peningkatan optis, lapisan a-si:h. I. LATAR BELAKANG Lapisan aktif silikon terhidrogenasi a-si: H, belakangan ini menjadi yang paling intensif dipelajari dalam semikonduktor. Sel surya berbahan silikon amorf relatif murah dibandingkan dengan sel surya silikon kristal, namun memiliki efisensi yang rendah. Berbagai metode digunakan untuk meningkatkan efisiensinya, salah satunya dengan mengoptimalkan kontak belakang sebagai reflektor cahaya. Lapisan p dan n juga terjadi generasi hole-elektron seperti pada lapisan a-si:h, namun pada lapisan p dan n proses tersebut relatif kecil sehingga tidak memberikan pengaruh pada pengumpulan muatan dan bisa diabaikan. Sel surya a-si:h p-i-n mempunyai efisiensi yang rendah dan relatif lebih murah bila dibandingkan dengan sel surya c-si. Struktur sel surya silikon amorf a-si:h p- i-n bergantung oleh absorbsi cahaya oleh lapisan a-si:h yang merupakan lapisan aktif. Pada lapisan a-si:h, foton cahaya yang terabsorbsi akan digunakan untuk mengeksitasi elektron dari pita valensi menuju pita konduksi. Kontak belakang yang didepositkan berfungsi secara optis sebagai reflektor yang akan merefleksikan cahaya, sehingga cahaya yang terabsorbsi oleh lapisan aktif a-si:h meningkat. Kontak belakang dengan Al yang pada umumnya digunakan akan terjadi pertumbuhan alumina Al 2 O 3 secara alami untuk selang waktu tertentu sehingga menurunkan efisiensi kerja sel [1]. Karakterisasi secara optis untuk mengetahui penggaruh optis f(r B ) dari kontak belakang terhadap penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h, serta efisiensi pengumpulan muatan secara optis (efisensi quantum QE) kontak belakang Al, Ag, dan Al:Ag. terhadap fak- E-MAIL: ismail@gmail.com Gambar 1: PECVD Multichamber MVSystem. tor peningkatan optis m dikarakterisasi dengan menggunakan monokromator dan detektor thorlabs. II. EKSPERIMEN Lapisan a-si:h dideposisi pada substrat corning glass eagle XG dengan ukuran (10 x 10) cm 2 ketebalan 1,1 mm, menggunakan PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) pada chamber PL3, dengan parameter deposisi laju silan 20 sccm, tekanan 530 mtorr, temperatur 270 C, dan laju hidrogen 70 sccm. Sistem PECVD multichamber MVSYS- TEM diperlihatkan pada Gambar 1. Metalisasi adalah pemberian lapisan logam pada bagian belakang lapisan a-si:h yang berperan sebagai kontak listrik dan reflektor cahaya. Lapisan logam yang dipergunakan adalah aluminium, perak dan aluminium:perak, ditumbuhkan melalui tehnik evaporasi, menggunakan evaporator MVSytem (Gambar 2). Kontak belakang hasil metalisasi berukuran (1 x 1) cm 2 dan c Jurusan Fisika FMIPA ITS 120203-1

Gambar 2: Evaporator MVSystem. Gambar 5: Penampang silang lapisan Al/Ag, a-si:h dan Ag dengan SEM. III. ANALISIS DAN PEMBAHASAN Indeks bias S, dari transmisi corning glass eagle XG T S, diperoleh dari metode swanepoel [3]: S = 1 + 1 1 T S TS 2 (1) Gambar 3: Hasil deposisi dan metaliasai permukaan lapisan a-si:h. (0,5 x 0,5) cm 2 [2]. Hasil deposisi lapisan a-si:h di PECVD dan metalisasi di evaporator diperlihatkan pada Gambar 3. Sampel dikarakterisasi dengan menggunakan sistem monokromator pada panjang gelombang 400-750 nm. Skema karakterisasi dengan seperangkat monokromator terlihat pada Gambar 4. Detektor diletakkan didepan dan belakang sampel yang terhubung dengan layar detektor. Jarak antara sumber cahaya lampu 100 W dengan objek 9 cm. Intensitas cahaya datang yang melalui monokromator terukur sebagai intensitas cahaya datang I, dan intensitas cahaya sesudah mengenai sampel terukur sebagai intensitas cahaya transmisi I t. diperoleh indeks bias berkisar 1,3461 pada panjang gelombang 400 nm hingga 1,5156 pada panjang gelombang 530 nm, sedangkan indeks bias lapisan a-si:h dihitung berdasarkan: dengan n i = N i + Ni 2 S2 (2) [ ] TM T m N i = 2S + S2 + 1 T M T m 2 dengan T M, T m transmisi maksimum-minimum yang terbaca pada detektor Thorlabs tiap panjang gelombang, diperoleh indeks bias a-si:h berkisar 3,071 pada panjang gelombang 440 nm hingga 4,97 pada panjang gelombang 560 nm. Ketebalan lapisan a-si:h dan kontak belakang diukur dengan menggunakan Scanning Electron Microscope (SEM) [4], seperti yang diperlihatkan Gambar 5. Ketebalan lapisan a-si:h sekitar 437,2 nm, sedangkan ketebalan lapisan kontak belakang Al dan Ag 349,7 nm dan metal Al:Ag 612 nm. Ketebalan lapisan a-si:h dapat pula dihitung dengan menggunakan [5]: (3) d = λ M λ m 2 ( m λ M λ m n M ) (4) Gambar 4: Pengukuran parameter optis lapisan a-si:h. dengan d ketebalan lapisan, λ M, λ m panjang gelombang maksimum, minimum pada n M, n m indeks bias a-si:h oleh transmisi minimum maksimum. Variasi ketebalan pada daerah panjang gelombang tertentu terlihat pada Tabel I, yang diperoleh ketebalan lapisan a-si:h sekitar 431,045 nm. Kontak belakang menyebabkan meningkatnya penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h, seperti yang diperlihatkan Gambar 6 dan 7. 120203-2

TABEL I: Ketebalan lapisan a-si:h pada variasi panjang gelombang λ d a-si:h(nm) 510-650 d 1 = 245,61 650-750 d 2 = 846,075 490-750 d 3 = 201,45 d = 431,045 Gambar 8: Diagram bandgap lapisan a-si:h Gambar 6: Penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h /Al: dan a-si:h /Ag. Penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h dan Al berkisar 0,9131-0,9168, kecenderungan stabil setelah panjang gelombang 500 nm, sedangkan penyerapan cahaya oleh lapisan a- Si:H dan Ag berkisar 0,9114-0,9189, yang terus menurun dengan kenaikan panjang gelombang. Penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h dan Al/Ag berkisar 0,9893-0,99, terjadi penurunan penyerapan pada panjang gelombang 590-610 nm. Energi gap diperoleh dengan menarik linear kurva kelengkungan dari energi tinggi ke energi rendah melalui persamaan [6]: hαv = B (hν Eop ) (5) dan Gambar 8 memperlihatkan E op sekitar 1,65 ev. Cahaya yang berasal dari lapisan a-si:h sebagian akan diteruskan ke kontak belakang dan sebagian direfleksikan kembali ke lapisan a-si:h, sehingga pada umumnya cahaya akan menempuh jarak 2 kali dari jarak yang ditempuh cahaya di lapisan a-si:h tanpa kontak belakang akibat dari faktor peningkatan optis. Peningkatan faktor optis m merupakan jarak Gambar 9: Peningkatan faktor optis a-si:h /Al: dan a-si:h /Ag. rata-rata yang dilalui tiap panjang gelombang sebelum diserap lapisan a-si:h [7]. Faktor peningkatan optis ditentukan dari transmisi lapisan a-si:h dengan kontak belakang T, koefisien absorbsi α dan x tebal lapisan a-si:h sesuai persamaan: ln T = m α x (6) Faktor peningkatan optis oleh lapisan a-si:h/al berkisar 1,563-1,635, peningkatan faktor optis lapisan a-si:h oleh Ag berkisar antara 1,584-1,616. Lapisan a-si:h/al cenderung menyerap panjang gelombang (450-750) nm, sedangkan Lapisan a-si:h/ag cenderung menurun pada panjang gelombang (450-750) nm seperti yang diperlihatkan pada Gambar 9. Faktor peningkatan optis oleh lapisan a-si:h/al:ag berkisar antara 2,932-3,016, terjadi penurunan penyerapan pada panjang gelombang (600-610) nm terlihat pada Gambar 10. Pengaruh kontak belakang pada penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h dinyatakan dengan persamaan: f(r B ) = R B (1 A i ) (7) Gambar 7: Penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h /Al:Ag. dengan A i adalah absorbsi lapisan a-si:h dan R B adalah faktor refleksi antar permukaan lapisan a-si:h dan kontak belakang yang berkisar antara 0,2-1 yang didapatkan dari struktur kontak belakang sebagai reflektor [8]. Nilai R B kontak 120203-3

diserap oleh lapisan a-si:h, dengan menggunakan model optis, pengumpul muatan ditentukan oleh persamaan: QE(λ) = T t A i [1 + f(r B )] (8) dengan T t transmisi cahaya dari corning glass eagle XG. Gambar 10: Peningkatan faktor optis a-si:h /Al:Ag. Gambar 12: Pengumpulan muatan kontak belakang Al, Ag, Al:Ag. Gambar 11: Pengaruh kontak belakang Al, Ag, Al:Ag. belakang yang didepositkan pada lapisan a-si:h adalah R B Al = 0,73, R B Ag = 0,74 dan R B Al:Ag = 0,75. Pengaruh optis kontak belakang Al berkisar 1,1531-1,1581, pengaruh optis kontak belakang Ag berkisar 1,1552-1,1603, seperti yang diperlihatkan pada Gambar 11, sedangkan faktor pengaruh optis kontak belakang Al/Ag berkisar 1,1573-1,1625. Pengaruh optis ketiga kontak belakang cenderung stabil setelah panjang gelombang 500 nm. Meskipun peningkatan faktor optis dengan kontak belakang Al:Ag dua kali lebih besar dibandingkan dengan kontak belakang Al ataupun Ag, namun pengaruh optisnya tidak berbeda jauh dengan pengaruh optis yang disebabkan oleh kontak belakang Al ataupun Ag, hal ini didisebabkan cahaya yang direfleksikan oleh sisi belakang metal Al:Ag tidak seluruhnya mencapai lapisan a-si:h, sebagian akan terserap pada batas logam Al dan Ag, paling tidak lapisan Ag ini akan mencegah tumbuhnya alumina pada Al. Efisiensi perngumpulan muatan QE merupakan perbandingan foton yang berinteraksi dengan elektron dan foton yang Gambar 12 memperlihatkan nilai pengumpulan muatan QE lapisan a-si:h pada ketiga kontak belakang. Pengumpul muatan oleh kontak belakang Al berkisar 0,8361-0,8723, dengan kontak belakang Ag berkisar 0,8362-0,8739, dan kontak belakang Al:Ag berkisar 0,8387-0,8755. Untuk ketiga lapisan metal (Al, Ag, Al:Ag) terdapat penurunan yang tajam pada panjang gelombang (400-540) nm, dan perlahan meningkat pada panjang gelombang (540-650) nm, yang kemudian perlahan turun pada panjang gelombang (650-750) nm. Nampak terlihat bahwa efisiensi pengumpul muatan pada kontak belakang Al:Ag relatif lebih besar dibandingkan dengan kontak belakang pada Al ataupun Ag, walaupun perbedaannya tidak terlalu signifikan. IV. SIMPULAN Pengaruh kontak belakang sebagai faktor peningkatan optis, dengan ditandai meningkatnya penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h. Faktor peningkatan optis merupakan jarak rata-rata cahaya sebelum diserap oleh lapisan a-si:h, terjadi karena cahaya terefleksi oleh kontak belakang. Faktor peningkatan optis dengan kontak belakang Al:Ag sekitar 2,932-3,016 dengan penyerapan cahaya berkisar 0,9893-0,99. Pengaruh kontak belakang Al/Ag pada penyerapan cahaya oleh lapisan a-si:h sekitar 1,1573-1,1625. Pengumpul muatan pada kontak belakang Al/Ag sekitar 0,8387-0,8755. Lapisan metal Ag yang didepositkan pada metal Al sebagai pencegah tumbuhnya alumina pada Al. [1] J. Bartl, M. Baranek, Measurement of Physical Quantities 4, 31 (2004). [2] R. Swanepoel, J. Phys. E: Sci. Instrum, 16, 1214 (1983). [3] N.A. Bakr, et al., PRAMANA-journal of physics Indian 120203-4

Academy of Sciences, 76, no.3, March (2011). [4] C. Hsu, et al., Nano Res, 3, 307 (2010). [5] N. Pimpabute, et al., Optica Applicata, XLI, no.1, 3 (2011). [6] B.M. Curtin, Photonic crystal back-reflectors for light management and enhanced absorption in a-si:h solar cells, Thesis M.Sc, Iowa State University Ames, Iowa, 2009. [7] K. Takahashi and M. Konagai, Amorphus silicon solar cell (Original Japanese language edition, Shokodo Ltd.,Tokyo, 1986). [8] A. Luque, and S. Hegedus, Handbook of Photovoltaic Science and Engineering (2nd edition, John Wiley & Sons, Inc., New York, 2011). [9] R. Kaplan, and B. Kaplan, Turk J. Phys. TUBITAK, 26, 363 (2000). [10] B.W. Lewis, Silica Nanosphere Textured Back Reflectors for Increased Absorption in Thin Film Amorphous Silicon Solar Cells, Thesis M.Sc., Iowa State University Ames, Iowa, 2010. 120203-5